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商业质量评估 · 2026-08-18 | 返回报告目录

中微公司(688012.SH)

各归其根 · 688012.SH · 半导体 / 刻蚀与薄膜沉积设备
Report
2026-08-18
Market
科创板
Industry
半导体 / 刻蚀与薄膜沉积设备
Ticker
688012
A
展望:正面 | 护城河:极强
半导体设备平台龙头,刻蚀+薄膜双轮,2025营收124亿、归母21亿,A。
5Y Avg ROE
稳健高增(2025净利+31%,平台化加速)
护城河评级
极强
可持续性
强(先进制程国产替代+薄膜放量+晶圆厂扩产)
管理层评价
稳定(尹志尧领衔,研发驱动)
周期性
中(晶圆厂资本开支周期)
资本强度
中(设备研发+制造,重技术)
进入壁垒
极强(刻蚀工艺+先进制程验证+客户黏性)
优势存在性
刻蚀国内龙头、反应台出货超6800台、薄膜设备+224%爆发、3nm 突破、收购众硅补全湿法

一、业务画像:刻蚀为锚的半导体设备平台

中微公司(688012.SH,成立于 2004 年,尹志尧领衔)是国内半导体设备平台型龙头,主营高端刻蚀设备与薄膜沉积设备,应用覆盖集成电路制造、先进封装、LED、功率器件等。公司以刻蚀为"压舱石",近年加速向薄膜沉积(LPCVD/ALD/钨系列)与量检测拓展,推进平台化战略。

  • 2025 年营收 123.85 亿元(同比 +36.62%),归母净利 21.11 亿元+30.69%),扣非 15.50 亿(+11.64%),毛利率 39.17%——平台型设备龙头稳健高增。
  • 研发投入 37.44 亿(+52.65%、占营收 30.23%),远高于科创板均值,高强度研发驱动产品迭代(新设备开发周期缩短至 2 年内)。
  • 业务结构:刻蚀设备 98.32 亿+35.12%、占比 79.39%)、LPCVD 5.06 亿(+224.23%、占比 4.09%)——薄膜设备成为新引擎。
  • 2026Q1 营收 29.15 亿(+34.13%)、归母 9.30 亿(+197.20%)、扣非 4.78 亿(+60.09%)、毛利率 39.89%——高增延续(归母高增含处置拓荆科技股票税后净收益约 3.97 亿,剔除后扣非 +60% 更反映主业)。
  • 刻蚀反应台全球出货 超 6800 台;拟发行股份收购杭州众硅(CMP)控股权,实现"干法+湿法"整体解决方案跨越。

二、盈利质量:平台化下的"高研发 + 稳健毛利"

指标2025年2026Q1评价
营业总收入123.85亿(同比+36.62%)29.15亿(+34.13%)高增稳健
归母净利润21.11亿(同比+30.69%)9.30亿(+197.20%)利润释放
扣非净利润15.50亿(同比+11.64%)4.78亿(+60.09%)主业增长
销售毛利率39.17%(-1.89pct)39.89%企稳回升
研发投入37.44亿(占30.23%)9.08亿高强度
刻蚀设备收入98.32亿(+35.12%)压舱石
LPCVD收入5.06亿(+224.23%)新引擎

盈利质量的核心逻辑是 "平台化规模 + 高研发 + 毛利企稳":毛利率 39.17%(2026Q1 回升至 39.89%)在设备板块属健康水平,2025 毛利率微降主因部分客户销售折扣(客户结构变化),已阶段性企稳;30.23% 研发投入虽压制短期净利率,但换来刻蚀/薄膜产品迭代加速与平台化拓展。2026Q1 归母 +197% 含一次性股权处置收益,剔除后扣非 +60% 仍强劲,主业趋势扎实。

三、护城河:刻蚀工艺 + 先进制程验证 + 平台化延展

  1. 刻蚀国内龙头:刻蚀反应台全球出货超 6800 台,CCP 单年付运超 1000 台、累计超 5000 台,ICP 累计 1800 台;在先进逻辑 3nm 及以下、先进存储超高深宽比(60:1)关键工艺持续突破并大规模量产,是国内晶圆厂核心供应商。
  2. 先进制程客户黏性:通过先进逻辑/存储产线关键工艺验证即形成高黏性,复购与客户份额提升持续(国内主要客户市占率稳步提升)。
  3. 薄膜设备第二曲线:LPCVD +224%、钨系列/金属栅系列获重复量产订单与客户验证,薄膜设备从验证期进入放量期,2026-2027 有望成核心增量。
  4. 平台化战略(干法+湿法):拟收购杭州众硅(CMP)补全湿法,从刻蚀/薄膜向"干法+湿法"整体方案跨越,对标国际设备巨头,打开长期空间。

四、关键变量:晶圆厂扩产、先进制程与研发转化

  • 晶圆厂资本开支节奏:设备需求与国内晶圆厂扩产(先进制程+成熟制程)强相关;若扩产放缓将影响新增订单,但存量替换与国产替代对冲部分波动。
  • 先进制程国产化提速:3nm 及以下、先进存储刻蚀/薄膜的突破与客户导入进度,决定高端产品占比与毛利率回升高度。
  • 薄膜设备放量兑现:LPCVD/钨系列能否在 2026-2027 持续高增(从 5 亿向更大体量跃升),是平台化第二曲线的核心观察点。
  • 研发高投入转化:30% 研发投入需转化为产品迭代与市占提升;若研发转化不及预期将拖累净利率。
  • 并购整合(众硅):收购 CMP 控股权后的整合与协同成效,影响湿法布局落地节奏。

五、结论:A,各归其根的半导体设备锚

中微公司是 A 股稀缺的"刻蚀+薄膜"半导体设备平台龙头:刻蚀反应台出货超 6800 台、3nm 关键工艺突破、LPCVD +224% 爆发、研发投入 30%、拟收购众硅补全湿法。"各归其根"属性体现在"刻蚀工艺壁垒 + 先进制程验证 + 平台化延展 + 国产替代"组合。

如实标注瑕疵:毛利率 39% 受客户折扣微压、扣非增速(11.64%)低于营收、并购整合存不确定性、估值随设备板块波动——这是 A 而非 A+ 的全部理由(需待薄膜设备规模化与湿法整合成效验证)。综合给予 A(优秀)——半导体设备核心资产,平台化+国产替代+先进制程三重驱动,是设备板块的"压舱石"型龙头。